两国际光学巨头在华打起专利战
    时间:2016-12-23  来源:中国知识产权报
    摘要
    :如今,一台国际先进的光刻设备售价超过1亿美元。为此,跨国公司不断在中国对光刻技术专利“跑马圈地”,为争夺巨大的中国市场展开专利攻防战。
      

      经过数年的技术创新,集成电路已从最初的每个芯片上只有数个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10亿个器件,光刻技术功不可没。如今,一台国际先进的光刻设备售价就超过1亿美元。为此,跨国公司不断在中国对光刻技术专利“跑马圈地”,为争夺巨大的中国市场展开专利攻防战。

      2008年7月,国家知识产权局就株式会社尼康(下称尼康公司)通过《专利合作条约》(PCT)途径,提交的名为“投影光学系统、曝光装置及曝光方法”的发明专利申请(专利号:ZL200480012069.0)发布授权公告,优先权日分别是2003年5月6日、2003年10月9日以及2003年10月24日。针对这件发明专利,2013年9月,德国卡尔蔡司SMT股份公司(下称蔡司公司)向国家知识产权局专利复审委员会(下称专利复审委员会)提出无效宣告请求。近期,专利复审委员会审查后宣告涉案专利的部分专利权无效。

      有专家分析,大力发展集成电路产业是我国的一项国家战略,本案所涉及的光刻技术是迅猛发展的大规模集成电路技术的核心工艺,其市场价值极大。无效宣告请求人与专利权人均为光学行业跨国公司巨头,两巨头之间掀起的专利战,体现了光刻技术领域的激烈竞争以及双方对中国市场的重视。

      技术创新推动行业进步

      尼康公司和蔡司公司此次专利战涉及的光刻技术是一项具有极大市场价值的核心工艺。那么,这究竟是一项怎样的技术?

      公开资料显示,光刻技术是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。其主要过程为,首先紫外光通过掩膜版照射到附有一层光刻胶薄膜的基片表面,引起曝光区域的光刻胶发生化学反应;再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶(前者称正性光刻胶,后者称负性光刻胶),使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上;最后利用刻蚀技术将图形转移到基片上。简言之,光刻技术就是在集成电路制造中,利用光学、化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。

      如此重要的技术,其主要用途是什么?集成电路在制造过程中会经历材料制备、掩膜、光刻、清洗、刻蚀、化学机械抛光等多个工序,其中尤以光刻工艺最为关键,这决定着制造工艺的先进程度。具体来说,光刻技术大致从3个方面为集成电路技术的进步提供了保证:第一是大面积均匀曝光,在同一块硅片上同时做出大量器件和芯片,保证了批量化的生产水平;第二是图形线宽不断缩小,生产成本持续下降;第三,由于线宽的缩小,器件的运行速度越来越快,产品性能不断提高。不少专家都认为,集成电路从上世纪60年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10亿个器件,半导体技术的集成度逐年提高,光刻技术功不可没。

      记者在采访中了解到,在光刻技术中,光刻机又是这项工艺的核心部分。光刻机是一种曝光工具,其造价昂贵,号称全球最精密的仪器之一,目前世界上最先进的光刻机售价已超过1亿美元。由于制造难度大,目前只有尼康公司等少数几家公司能够制造光刻机。值得一提的是,经过多年的技术创新和研发,我国光刻机制造取得了突破性进展。今年年初,中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队自主研发成功的紫外纳米压印光刻机,其成本仅为国外同类设备的三分之一,这套设备采用新型纳米对准技术,将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级,使我国微纳实用制造水平迈上了新的台阶。

      光刻技术专利引发争议

      成立于1917年的尼康公司,不仅是全球知名的相机制造商,其还是分步重复半导体生产设备(分档器)的制造商,公司还生产护目镜、眼科检查设备、双筒望远镜、显微镜、勘测器材等。作为全球主要的能够制造商用光刻机的公司之一,尼康公司推出的G-line、I-line步进式光刻机、投影式光刻机在全球晶圆厂大量使用。2008年7月,尼康公司在中国提交的上述发明专利申请获得授权。

      作为全球知名光学系统、工业测量仪器和医疗设备制造企业,蔡司公司在光学及光电子学领域同样处于全球领先地位。针对上述专利权,2013年9月,蔡司公司向中国国家知识产权局专利复审委员会提出无效宣告请求。经形式审查合格,专利复审委员会依法受理了上述无效宣告请求,并成立合议组。

      该案合议组成员在接受本报记者采访时表示,涉案专利权利要求包含35项,请求人提出的无效理由涉及大多数无效条款,比如,专利法第三十三条、专利法实施细则第二十条第一款、专利法第二十六条第四款、专利法实施细则第二十一条第二款、专利法第二十二条第二款、专利法第二十二条第三款等。此外,该案涉及证据30余份,双方还邀请了国内一流大学的知名学者作为专家证人,德、日公司外籍代表全程参加庭审。

      记者在采访中了解到,由于此案案情错综复杂,存在诸多疑难法律问题。口审耗时3天,合议组面对庭审中的新问题,一一化解,抓住本案焦点问题,进行了全面、深入和详细的调查。口审结束后,合议组对口审调查中的争议所涉及的相关技术作了进一步深入了解和研究,确保能够正确把握所属领域技术人员能力和水平,对该案进行了公正的审理。

      该案合议组成员告诉本报记者,涉案专利和对比文件分别是否享有优先权是决定该案结论的关键,并最终以部分权利要求不具备新颖性或创造性为理由作出了涉案专利的专利权部分无效的审查决定。

      该案合议组成员表示,该案亮点在于对涉案专利及对比文件的优先权核实,本专利具有3个优先权日,相关优先权核实部分厘清了相同主题的发明或者实用新型的判断标准,即如何判断在后申请中各项权利要求所述的技术方案是否清楚地记载于在先申请的说明书和权利要求中,其中结合权利要求1与对比文件10的对比特别提出如果在先申请对某一或某些技术特征只是含糊的阐述或者暗示,而在后申请增加了对此技术特征的详细叙述,使得本领域技术人员不能从在先申请直接、毫无疑义地确定,则在先申请不能作为在后申请要求优先权的基础,具有指导意义。(本报记者 姜旭)




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